О компании
Партнеры
Карьера
Контакты
info@gt-trade.ru
+7 (495) 532-89-67
Задать вопрос
Оборудование
Оборудование механической обработки
Кузнечно-прессовое оборудование
Сварочное оборудование
Обработка и изготовление композита
Окрасочное оборудование
Подъемно-транспортное оборудование
Гальваническое оборудование
Оборудование для обработки неметаллов
Термическое оборудование
Аналитическое оборудование и метрология
Оборудование для производства микроэлектроники
Инжиниринг и технологии
Технологический аудит
Подбор оборудования по ТЗ заказчика
Подбор режущего, вспомогательного и мерительного инструмента
Разработка и изготовление приспособлений и оснастки
Разработка постпроцессоров
Разработка, отладка и внедрение управляющих программ
Разработка технологических процессов
Оснастка и инструмент
Металлорежущий инструмент
Инструментальная и технологическая оснастка
Подшипники
Захватные системы
Технологии зажима
Измерительный инструмент
Абразивный и алмазный инструмент
Список партнеров
Капитальный ремонт оборудования
Сервис
Техническое обслуживание
Комплексная диагностика оборудования
Ремонт станков
Постгарантийное обслуживание
Выкуп и продажа подержанного оборудования
Партнерство
GT TECHNOLOGIES
Сварка трением с перемешиванием
Вальцешлифование
Главная
Оборудование
Оборудование для производства микроэлектроники
Нанесение, проявление и сушка фоторезиста
Оборудование механической обработки
Нанесение, проявление и сушка фоторезиста
Нанесение, проявление и сушка фоторезиста
Нагревательная плита для сушки фоторезиста Osiris UNIXX HTp20
Нанесение, проявление и сушка фоторезиста
Нагревательная плита для сушки фоторезиста Osiris UNIXX HTe20
Нанесение, проявление и сушка фоторезиста
Автоматическая установка для сушки фоторезиста с одним модулем нагревательной плиты Osiris UNIXX He45
Нанесение, проявление и сушка фоторезиста
Автоматическая установка для сушки фоторезиста с тремя модулями нагревательных плит Osiris UNIXX H1403
Нанесение, проявление и сушка фоторезиста
Полуавтоматическая установка отмывки и жидкостной химической обработки пластин Osiris UNIXX D20
Нанесение, проявление и сушка фоторезиста
Установка для отмывки полупроводниковых пластин, подложек и фотошаблонов Osiris CHEMIXX 30pm
Нанесение, проявление и сушка фоторезиста
Установка для жидкостной химической обработки Osiris CHEMIXX 760
1
2