Установка CHEMIXX 760 предназначена для жидкостной химической обработки подложек размером до 535х535 мм (21”x21”). В установке могут выполняться такие процессы как отмывка, травление или проявление. Для подачи реактивов применяются сопла и форсунки разного типа. Также предусмотрена возможность подогрева реактивов до 60°С-85°С.
Габариты пластин и подложек
до 535 х 535 мм
Скорость вращения центрифуги
До 3000 об/мин, программируется с шагом 1 об/мин
Ускорение вращения центрифуги
До 2000 об/мин в секунду, с шагом 1 об/мин в секунду
Время обработки
До 999,9 с, шаг 0,1 с
Материал рабочей камеры
Полипропилен (белый)
Материал чаши центрифуги
Полипропилен
Материал корпуса
Коммуникации
Электропитание
400 VAC, 3 фазы, нейтраль, заземление, 50/60 Гц
Вакуум
-0,8 бар (-600 Торр), внешний диаметр трубки 8 мм
Азот
4-6 бар, PE-трубка с внешним диаметром 8 мм
Чистый сухой воздух
8 ± 2 бар, трубка с внешним диаметром 10 мм
Деионизированная вода
4 бар, PFA-трубка с внешним диаметром 21 мм
Вытяжка (центрифуга)
1х Внешний диаметр 110 мм, 50-200 м 3 /ч
Вытяжка (рабочая камера)
2х Внешний диаметр 140 мм, 50-200 м 3 /ч
Вытяжка (хранение реактивов)
1х Внешний диаметр 110 мм, 50-100 м 3 /ч
Слив
Подключение к инженерным сетям заказчика
Габариты
Корпус установки
1230 х 1280 х 2042/2710 мм
Внешний шкаф для хранения реактивов
585 х 650 х 1420 мм
