Установка CHEMIXX 30pm предназначена для отмывки полупроводниковых пластин диаметром до 300 мм, подложек и фотошаблонов размером до 9” x 9”, с использованием растворителей, мегазвука и механической очистки щёткой
Размеры пластин/подложек
Круглые диаметром до 300 мм,
Квадратные с размерами до 9”x 9” (230х230 мм)
Скорость вращения
до 4 000 оборотов в минуту
Количество ёмкостей с жидким материалом
До 3х, во встроенном кабинете
Количество манипуляторов
До 2х
Подогрев материала в линии
до 60°С
Требуемые подключения
Электропитание: 400 В, 3 фазы, 50 Гц;
Вакуум: -0,8 бар
Подача сжатого воздуха (опционально): 8 бар
Подача азота (опционально): 4.5 бар
Вытяжка: 220 м3/ч
Дренаж
Габариты
1200 х 650 х 1300 мм
