Химико-механический полировальный станок SAERO2K

Цена: По запросу
Заявка на консультацию
  • 200мм установка ХМП
  • Полностью автоматизированный
  • 2 шламовых насоса
  • 2 камерные щетки, 2 используемых химиката (SC1, HF, NH4OH)
  • Центрифуга-сушилка (0 ~ 2500 об/мин)
  • Сушка пластин / сушка пластин на выходе

Применение

  • Полупроводники
  • МЭМС
  • Университетские лаборатории
  • Технологическое обслуживание ХМП

 

ПЛАНШАЙБА

Перемещение

Вращение

Скорость вращения

Макс. 200 об/мин

Площадь панели

20"

КОНДИЦИОНЕР

Перемещение

Вращение/зачистка

ДРУГОЕ

Подача шлама

Сверху вниз

Очистка поверхности

Высокое давление (Охлаждающая жидкость на основе деионизированной воды)

Ввод-вывод пластин

Сухой вход/сухой выход

Ввод

Высокое давление

Вертикальный

Передача

Робот

3-осевой

Очиститель №1,2

Использование химикатов

HF, HN4OH, SC1

Очистка щеткой

Двухсторонняя очистка

Установка для центробежной сушки после отмывки

Сканирующая насадка

Охлаждающая жидкость на основе деионизированной воды

Перемещение

Вращение

  • 200мм установка ХМП
  • Полностью автоматизированный
  • 2 шламовых насоса
  • 2 камерные щетки, 2 используемых химиката (SC1, HF, NH4OH)
  • Центрифуга-сушилка (0 ~ 2500 об/мин)
  • Сушка пластин / сушка пластин на выходе

Применение

  • Полупроводники
  • МЭМС
  • Университетские лаборатории
  • Технологическое обслуживание ХМП

 

ПЛАНШАЙБА

Перемещение

Вращение

Скорость вращения

Макс. 200 об/мин

Площадь панели

20"

КОНДИЦИОНЕР

Перемещение

Вращение/зачистка

ДРУГОЕ

Подача шлама

Сверху вниз

Очистка поверхности

Высокое давление (Охлаждающая жидкость на основе деионизированной воды)

Ввод-вывод пластин

Сухой вход/сухой выход

Ввод

Высокое давление

Вертикальный

Передача

Робот

3-осевой

Очиститель №1,2

Использование химикатов

HF, HN4OH, SC1

Очистка щеткой

Двухсторонняя очистка

Установка для центробежной сушки после отмывки

Сканирующая насадка

Охлаждающая жидкость на основе деионизированной воды

Перемещение

Вращение