Установка BASIXX ST20+ предназначена для нанесения и проявления фоторезиста методом центрифугирования, подходит для подложек диаметром до 200 мм или с размерами до 150х150 мм. Установка является экономичным решением для лабораторного применения.
Размеры пластин/подложек
Круглые диаметром до 200 мм,
Квадратные с размерами до 150х150 мм
Скорость вращения центрифуги
До 10000 об/мин, шаг регулировки 1 об/мин
Ускорения вращения
До 4000 об/мин за секунду
Время обработки
1 – 999,9 с; с шагом 0,1 с
Материал чаши
Полипропилен
Количество линий дозирования
До 5 шт.
Требуемые подключения
Электропитание: 220 В, 1 фаза, 50 Гц;
Вакуум: -0,8 бар
Вытяжка: приблиз. 30 м3/ч
Подача азота (опционально): 4±0,2 бар;
Подача сжатого воздуха (опционально): 8±2 бар
Размеры (с закрытой крышкой)
450х510х425 мм
