Установка химического осаждения из газовой фазы (PECVD) ULTECH COSMOS–ICP

Материалы для осаждения

SiO2, Si3N4, поли Si, n+ легированные поли, p+ легированные поли и др.

Размер подложки

Макс. 8 дюймов

Выход продукта

Заготовка до 8 дюймов:
1 пластина/партия

Заготовка до 4 дюймов:
3 пластины/партия

Нагреватель подложки

> 400℃

Мощность плазмы

600w@13.56MHz или 2Kw

Контроль давления

Дроссельный клапан с манометром Baratron (10 Торр)

Предельное давление

< 5,0E-3 Торр

Вакуумный насос

Сухой насос или роторный насос

Управление

Управление с ПК (программное обеспечение UPRO)

Габаритные размеры (Ш*Д*Г)

2 050 мм X 800 мм X 1 600 мм