info@gt-trade.ru +7 (495) 532-89-67 Задать вопрос

Установка физического осаждения паров металлов (PVD) ULTECH HEX

Цена: По запросу
Заявка на консультацию

Платформа для осаждения тонких пленок, позволяющая напылять различные металлы и оксиды металлов.         

Источники напыления:

  • Магнетронные источники
  • Электронно-лучевые испарители
  • Термическое испарение
  • Источник органических материалов

 

HEX

HEX-L

Размер образцов

4” (100 мм)

6” (150 мм)

Откачка

80 лс -1

300 лс -1

Опционально

300 лс -1

700 лс -1

Количество панелей

6

6

Макс. количество источников

3 (+QCM)

6

Питание

220 В, однофазное

Вода

0,5 л/мин, 15 psi

Газ

Ar, N

 

Платформа для осаждения тонких пленок, позволяющая напылять различные металлы и оксиды металлов.         

Источники напыления:

  • Магнетронные источники
  • Электронно-лучевые испарители
  • Термическое испарение
  • Источник органических материалов

 

HEX

HEX-L

Размер образцов

4” (100 мм)

6” (150 мм)

Откачка

80 лс -1

300 лс -1

Опционально

300 лс -1

700 лс -1

Количество панелей

6

6

Макс. количество источников

3 (+QCM)

6

Питание

220 В, однофазное

Вода

0,5 л/мин, 15 psi

Газ

Ar, N