Оборудование LPCVD серии PYRO использует нагрев для того, чтобы газообразные соединения вступали в реакцию и осаждались на поверхности подложки до образования стабильной твердой пленки в условиях низкого давления. LPCVD используется для осаждения поли-Si, Si3N4, фосфосиликатного стекла SiO2, борофосфосиликатного стекла, аморфного кремния, силицида тугоплавкого металла и других тонких пленок.
Применение
SiO2, Si3N4, поликремний и др.
Мокрое / сухое окисление
Диффузия (N+, P+), разгон примеси
Отжиг
Размер подложки
Заготовка до макс. 4-дюймовая пластина
Выход продукта
Макс. 10 пластин/партия
Температура нагревателя
Макс. 1,250℃
Зона управления нагревателем
1 зона
Станция загрузки
Ручная загрузка
Предельное давление
< 5,0E-3 Торр
Вакуумный насос
Сухой насос или роторный насос
Управление
Управление с компьютера или вручную
