Оборудование LPCVD серии PYRO использует нагрев для того, чтобы газообразные соединения вступали в реакцию и осаждались на поверхности подложки до образования стабильной твердой пленки в условиях низкого давления. LPCVD используется для осаждения поли-Si, Si3N4, фосфосиликатного стекла SiO2, борофосфосиликатного стекла, аморфного кремния, силицида тугоплавкого металла и других тонких пленок.
Применение
SiO2, Si3N4, поликремний, легирование (N+, P+)
Осаждение Нитридная пленка с низким напряжением
Осаждение LTO/HTO
Мокрое/сухое окисление
Диффузия (N+, P+), разгон примеси
Отжиг
Размер подложки
От 4 до 8-дюйм пластина
Выход продукта
Макс. 50 пластин/партия
Температура нагревателя
Макс. 1,250℃
Зона управления нагревателем
От 1 до 5 зон
Станция загрузки
Автоматическая загрузка/выгрузка с помощью линейной направляющей
Предельное давление
< 5,0E-3 Торр
Вакуумный насос
Сухой насос или роторный насос
Управление
Управление с ПК (программное обеспечение UPRO)
